JAYAPURA – Lembaga Pemasyarakatan (Lapas) Lapas Kelas IIA Abepura mengusulkan sebanyak 511 narapidana atau Warga Binaan Pemasyarakatan (WBP) untuk menerima remisi atau pengurangan masa tahanan dalam rangka Hari Ulang Tahun (HUT) ke-80 Kemerdekaan Republik Indonesia.
Ini disampaikan Kepala Lapas kelas llA Abepura Badarudin kepada Cenderawasih Pos, Selasa (12/8). Dalam keterangannya Badarudin mengatakan bahwa di tahun ini (2025) Lapas Abepura terdapat dua jenis pemberian remisi yakni, Remisi umum dan remisi dasawarsa.
Pemberian dua jenis Remisi tersebut berdasarkan Keputusan Presiden (Kepres) Nomor 174 tahun 1999. Diketahui di Lapas Kelas IIA Abepura hingga saat ini jumlah WBP sebanyak 791 orang narapidana dan tahanan dan yang diusulkan untuk mendapatkan remisi sebanyak 511 orang.
“Terkait dengan remisi umum tahun 2025 ini, yang diusulkan itu sebanyak 511 warga binaan yang memenuhi syarat baik administrasi maupun substantif, memenuhi kebutuhan hukum tetap, dan sudah ingkrah,” kata kalapas kepada Cenderawasih Pos.
JAYAPURA – Lembaga Pemasyarakatan (Lapas) Lapas Kelas IIA Abepura mengusulkan sebanyak 511 narapidana atau Warga Binaan Pemasyarakatan (WBP) untuk menerima remisi atau pengurangan masa tahanan dalam rangka Hari Ulang Tahun (HUT) ke-80 Kemerdekaan Republik Indonesia.
Ini disampaikan Kepala Lapas kelas llA Abepura Badarudin kepada Cenderawasih Pos, Selasa (12/8). Dalam keterangannya Badarudin mengatakan bahwa di tahun ini (2025) Lapas Abepura terdapat dua jenis pemberian remisi yakni, Remisi umum dan remisi dasawarsa.
Pemberian dua jenis Remisi tersebut berdasarkan Keputusan Presiden (Kepres) Nomor 174 tahun 1999. Diketahui di Lapas Kelas IIA Abepura hingga saat ini jumlah WBP sebanyak 791 orang narapidana dan tahanan dan yang diusulkan untuk mendapatkan remisi sebanyak 511 orang.
“Terkait dengan remisi umum tahun 2025 ini, yang diusulkan itu sebanyak 511 warga binaan yang memenuhi syarat baik administrasi maupun substantif, memenuhi kebutuhan hukum tetap, dan sudah ingkrah,” kata kalapas kepada Cenderawasih Pos.
